Titan Pipe (Mục tiêu titan dạng ống)

Trang chủ Sản phẩm Mạ PVD màu (Physical Vapor Deposition)Vật liệu mạ (Target)Dạng ống (Pipe Target)

z7174765805531_05fee0cf6ce380d80ddfeee4ce2e5a8a_5921_HasThumb.jpg

z7174828145681_0f2e175a7533a6be0c48b6d5f2d70c2b

z7174827327401_4f1627935124d8068ab20b0887756545

z7174826250497_fdfa08db78ee44c6fe9088623d8d2fb9

z7174825340921_2ec1b9a3002d3fe9575bfa496b6692e2

Titan Pipe Target (Mục tiêu titan dạng ống)

⚙️ Thông số kỹ thuật tiêu chuẩn

Thông số	Giá trị / Phạm vi
Thành phần	Ti ≥ 99.5% – 99.95%
Dạng	Ống tròn (Rotatable / Pipe Target)
Đường kính ngoài (OD)	125 – 150 mm
Đường kính trong (ID)	100 – 120 mm
Chiều dài	500 – 2500 mm
Mật độ	≥ 4.51 g/cm³
Nhiệt độ nóng chảy	1,668°C
Độ cứng	~160 HV
Độ nhám bề mặt (Ra)	≤ 1.6 μm
Phương pháp liên kết	Bonded lên ống Cu hoặc Ti
Cấu trúc vi mô	Polycrystalline (đa tinh thể)

Ti Pipe Target (Titanium Pipe Target) là vật liệu mục tiêu dạng ống (rotatable target) được sử dụng phổ biến trong công nghệ phún xạ magnetron sputtering PVD. Target được sản xuất từ Titan (Ti) tinh khiết ≥99.95%, có độ bền cao, dẫn nhiệt tốt và ổn định trong môi trường chân không cao. SHS Material Vina cung cấp Ti Pipe Target chất lượng cao, tương thích với nhiều hệ thống rotating magnetron cathode của Trung Quốc, Hàn Quốc, Nhật Bản và Châu Âu.

Hotline: 0799 513 333 - zalo 0985 792 185

Gửi yêu cầu tư vấn

Mô tả sản phẩm

🔹 Giới thiệu sản phẩm

Ti Pipe Target (Titanium Pipe Target) là vật liệu mục tiêu dạng ống (rotatable target) được sử dụng phổ biến trong công nghệ phún xạ magnetron sputtering PVD.
Target được sản xuất từ Titan (Ti) tinh khiết ≥99.95%, có độ bền cao, dẫn nhiệt tốt và ổn định trong môi trường chân không cao.
SHS Material Vina cung cấp Ti Pipe Target chất lượng cao, tương thích với nhiều hệ thống rotating magnetron cathode của Trung Quốc, Hàn Quốc, Nhật Bản và Châu Âu.

⚙️ Thông số kỹ thuật tiêu chuẩn

Thông số	Giá trị / Phạm vi
Thành phần	Ti ≥ 99.5% – 99.95%
Dạng	Ống tròn (Rotatable / Pipe Target)
Đường kính ngoài (OD)	125 – 150 mm
Đường kính trong (ID)	100 – 120 mm
Chiều dài	500 – 2500 mm
Mật độ	≥ 4.51 g/cm³
Nhiệt độ nóng chảy	1,668°C
Độ cứng	~160 HV
Độ nhám bề mặt (Ra)	≤ 1.6 μm
Phương pháp liên kết	Bonded lên ống Cu hoặc Ti
Cấu trúc vi mô	Polycrystalline (đa tinh thể)

💡 Đặc điểm nổi bật

Hiệu suất phún xạ cao, plasma ổn định và phân bố đều.
Tuổi thọ target cao, mài mòn đồng đều nhờ chuyển động quay liên tục.
Dễ tạo các lớp phủ hợp chất TiN, TiCN, TiAlN, TiO₂ với màu sắc đa dạng (vàng, tím, đen, xanh lam,…).
Độ bám dính và độ cứng cao (1800–3200 HV), chịu mài mòn và chịu nhiệt tốt.
Thích hợp cho môi trường khí Ar, N₂, O₂, C₂H₂.
Hiệu suất sử dụng vật liệu >80%, ít sinh bụi, ổn định trong quá trình phún xạ dài hạn.

🧪 Ứng dụng

Trang trí (Decorative coating): phủ vàng ánh kim, vàng hồng, đen, xanh tím cho linh kiện, đồng hồ, vòi nước, phụ kiện nội thất, điện thoại,…
Kỹ thuật (Functional coating): phủ chống mài mòn TiN, TiAlN, TiCN cho dao cắt, khuôn ép, chi tiết cơ khí chính xác,…
Optical coating: tạo lớp TiO₂, TiOₓ để điều chỉnh chiết suất trong lớp phủ quang học IR/AR.

🏭 Khí sử dụng khuyến nghị

Khí sử dụng	Vai trò	Lớp phủ thu được / Màu sắc
Ar (Argon)	Khí plasma chính	Lớp Ti kim loại (bạc xám)
N₂ (Nitrogen)	Khí phản ứng tạo nitride	TiN (vàng), TiCN (tím), TiAlN (xanh tím/đen)
O₂ (Oxygen)	Tạo lớp oxide	TiO₂ (xanh lam, cầu vồng)
C₂H₂ (Acetylene)	Phối khí carbon	TiCN (tím, tím than)