Ti-Al Pipe Target (Mục tiêu TiAl dạng ống)
⚙️ Thông số kỹ thuật tiêu chuẩn
| Thông số |
Giá trị / Phạm vi |
| Thành phần hợp kim |
Ti : Al = 50:50 hoặc 70:30 (wt%) |
| Độ tinh khiết tổng |
≥ 99.5% |
| Dạng |
Ống tròn (Rotatable / Pipe Target) |
| Đường kính ngoài (OD) |
125 – 150 mm |
| Đường kính trong (ID) |
100 – 120 mm |
| Chiều dài |
500 – 2500 mm |
| Mật độ |
≥ 4.3 g/cm³ |
| Nhiệt độ nóng chảy (hợp kim) |
~1,600°C |
| Độ cứng |
~250 HV |
| Độ nhám bề mặt (Ra) |
≤ 1.6 μm |
| Phương pháp liên kết |
Bonded lên ống Cu hoặc Ti |
| Cấu trúc vi mô |
Đa tinh thể (polycrystalline) |
TiAl Pipe Target (Titanium Aluminum Pipe Target) là mục tiêu phún xạ dạng ống (rotatable target) được chế tạo từ hợp kim Titanium – Aluminum (Ti–Al) với độ tinh khiết cao.
Vật liệu này được sử dụng phổ biến trong công nghệ phún xạ magnetron sputtering PVD để tạo ra các lớp phủ TiAlN, TiAlCN, TiAlON có độ cứng vượt trội, khả năng chịu nhiệt và chống mài mòn cao.
SHS Material Vina cung cấp TiAl Pipe Target chất lượng cao, tương thích với nhiều hệ thống rotating magnetron cathode của Trung Quốc, Hàn Quốc, Nhật Bản và Châu Âu.
Gửi yêu cầu tư vấn
🔹 Giới thiệu sản phẩm
TiAl Pipe Target (Titanium Aluminum Pipe Target) là mục tiêu phún xạ dạng ống (rotatable target) được chế tạo từ hợp kim Titanium – Aluminum (Ti–Al) với độ tinh khiết cao.
Vật liệu này được sử dụng phổ biến trong công nghệ phún xạ magnetron sputtering PVD để tạo ra các lớp phủ TiAlN, TiAlCN, TiAlON có độ cứng vượt trội, khả năng chịu nhiệt và chống mài mòn cao.
SHS Material Vina cung cấp TiAl Pipe Target chất lượng cao, tương thích với nhiều hệ thống rotating magnetron cathode của Trung Quốc, Hàn Quốc, Nhật Bản và Châu Âu.
⚙️ Thông số kỹ thuật tiêu chuẩn
| Thông số |
Giá trị / Phạm vi |
| Thành phần hợp kim |
Ti : Al = 50:50 hoặc 70:30 (wt%) |
| Độ tinh khiết tổng |
≥ 99.5% |
| Dạng |
Ống tròn (Rotatable / Pipe Target) |
| Đường kính ngoài (OD) |
125 – 150 mm |
| Đường kính trong (ID) |
100 – 120 mm |
| Chiều dài |
500 – 2500 mm |
| Mật độ |
≥ 4.3 g/cm³ |
| Nhiệt độ nóng chảy (hợp kim) |
~1,600°C |
| Độ cứng |
~250 HV |
| Độ nhám bề mặt (Ra) |
≤ 1.6 μm |
| Phương pháp liên kết |
Bonded lên ống Cu hoặc Ti |
| Cấu trúc vi mô |
Đa tinh thể (polycrystalline) |
💡 Đặc điểm nổi bật
-
Phún xạ ổn định, plasma đồng đều, màng phủ mịn và bám dính cao.
-
Tạo lớp TiAlN / TiAlCN / TiAlON có độ cứng ~2800–3500 HV, chịu nhiệt lên đến ~800°C.
-
Chống oxy hóa và mài mòn vượt trội, phù hợp cho lớp phủ kỹ thuật cao cấp.
-
Hiệu suất vật liệu cao, ít sinh bụi, độ đồng đều phủ tốt trên toàn bộ sản phẩm.
-
Có thể phối khí N₂, O₂, C₂H₂ để điều chỉnh màu sắc và tính chất màng.
-
Tuổi thọ target cao, xói mòn đều nhờ cơ chế quay liên tục của dạng ống.
🧪 Ứng dụng
-
Kỹ thuật (Functional coating): lớp phủ TiAlN, TiAlCN, TiAlON trên dao cắt, khuôn ép, chi tiết cơ khí chịu nhiệt, trục máy, khuôn đúc nhôm, v.v.
-
Trang trí (Decorative coating): tạo màu xanh tím, xám đen, vàng sậm cho phụ kiện, đồng hồ, linh kiện kim loại.
-
Optical coating: dùng làm lớp trung gian hoặc lớp phản xạ trong màng nhiều lớp (multilayer coating).
🏭 Khí sử dụng khuyến nghị
| Khí sử dụng |
Vai trò |
Lớp phủ thu được / Màu sắc |
| Ar (Argon) |
Khí plasma chính |
Lớp TiAl kim loại (bạc xám) |
| N₂ (Nitrogen) |
Khí phản ứng chính |
TiAlN (tím, đen, xanh tím) |
| C₂H₂ (Acetylene) |
Tạo carbonitride |
TiAlCN (tím đậm / đen ánh) |
| O₂ (Oxygen) |
Tạo oxide / oxynitride |
TiAlON (xanh lam, xám ánh tím) |
🔧 Ưu điểm của dạng ống (Rotatable Target)
-
Tăng tuổi thọ target, giảm hao mòn không đều.
-
Phân bố plasma ổn định, cho lớp phủ đồng đều hơn.
-
Hiệu suất sử dụng vật liệu >80%, tối ưu chi phí sản xuất.
-
Phù hợp cho cả lớp phủ kỹ thuật và trang trí cao cấp.
-
Tương thích nhiều hệ thống sputtering: buồng đứng, nằm, inline hoặc hybrid.