✅ 1. Lớp phủ chiết suất thấp (Low Refractive Index Layer)

• Chỉ số khúc xạ của YF₃ rất thấp (~1.47 – 1.51), tương đương hoặc thấp hơn cả MgF₂.

• Thường được sử dụng làm lớp xen kẽ trong màng phủ đa lớp cùng với vật liệu chiết suất cao (như TiO₂, HfO₂) để:

  • Tăng hiệu quả chống phản xạ (AR coating).

  • Tăng truyền sáng trong vùng bước sóng mục tiêu.

✅ 2. Truyền quang tuyệt vời trong vùng hồng ngoại

• YF₃ có khả năng truyền sáng rất tốt trong vùng từ UV (200 nm) đến hồng ngoại xa (IR đến ~8–9 µm).

• Do đó rất phù hợp cho các thấu kính, cửa sổ quang học sử dụng trong:

  • Thiết bị nhìn đêm

  • Cảm biến hồng ngoại (IR sensors)

  • Hệ thống laser hồng ngoại

✅ 3. Tính ổn định và bền hóa học cao

• Không bị oxy hóa hay hút ẩm nhiều như một số vật liệu fluoride khác.

• Bền trong môi trường chân không, nhiệt độ cao → dùng được trong hệ thống phủ bay hơi nhiệt hoặc electron beam.

✅ 4. Không dẫn điện

• Là vật liệu cách điện hoàn toàn, lý tưởng cho các thiết bị quang điện tử nhạy cảm.