✅ 1. Lớp phủ chiết suất cao (High Refractive Index Layer)

• HfO₂ có chỉ số khúc xạ cao (~2.0 – 2.2 ở bước sóng 550 nm), lý tưởng để dùng trong:

  • Lớp phủ chống phản xạ đa lớp (AR coating).

  • Bộ lọc quang học (optical filters).

• Thường kết hợp với vật liệu chiết suất thấp như SiO₂ để tạo nên lớp phủ interference đa lớp tối ưu truyền sáng.

✅ 2. Ổn định nhiệt và hóa học cao

• HfO₂ chịu nhiệt tốt, không bị biến tính dưới môi trường nhiệt độ cao hoặc chân không.

• Không phản ứng với hầu hết môi trường hóa học, rất bền với thời gian.

• Phù hợp với ứng dụng ngoài trời, môi trường khắc nghiệt, thiết bị laser công suất cao.

✅ 3. Độ bền cơ học và chống trầy tốt

• HfO₂ tạo lớp màng cứng và bền, giúp bảo vệ bề mặt thấu kính khỏi trầy xước, mài mòn và bụi bẩn.

• Được dùng trong kính công nghiệp, quân sự, thiết bị quang học chính xác.

✅ 4. Dải truyền quang rộng

• Truyền tốt trong vùng UV đến hồng ngoại gần (250 nm – 10 µm) → dùng cho:

  • Ống kính máy ảnh, kính thiên văn, kính hiển vi, laser, cảm biến ảnh.